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                      MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner

                      日期:2024-06-15 08:29
                      瀏覽次數:154
                      摘要:MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner

                      MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner

                      ■ MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner特點■ 手動操作、接觸式對準曝光機。■ 依照不同需求以及成本考量?有準直儀型?多面鏡型?整合(積算器)型三種曝光光源。■ 有可對應5×5mm~100×100mm以及1 inch~6 inch的基板的各類機種。■ Mask Holder?載臺的更換作業簡單易行,可在1分鐘內完成,適合用于研究開發。■ 對準顯微鏡的對物鏡可對應高對準精度或厚膜等用途,并且有4×、10×、20×三種。

                      ■ MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner共通規格接觸方法軟性接觸/ 硬性接觸( 部分選配)對準精度使用對物鏡20×時<1.2μm(M-1S除外)對準顯微鏡雙視野顯微鏡 對物鏡間隔18~60mm(M-1S除外)曝光波長多頻率(h.i.g線)

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                      MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner

                      蘇公網安備 32050502000409號

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